光刻机
1.86W关注
EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备,目前由ASML独家进行研发、制造,ASML公司掌握80%的国际市场份额,市面上无法寻找到其他替代品
全部内容
2025-03-06 12:23
2025-03-05 15:07
2025-03-05 15:05
收藏
阅264.04W
2025-03-05 14:42
收藏
阅272.35W
2025-03-04 13:51
2025-03-03 13:04
2025-02-25 13:09
2025-01-29 20:43
2025-01-29 16:06
2025-01-23 19:55 来自 新华社
2025-01-13 13:56
2025-01-07 15:19 来自 科创板日报 张真
①据悉,大孔径铥激光器或有望取代EUV采用的二氧化碳激光器;
②BAT系统使用掺铥元素的氟化钇锂作为增益介质,从而增加激光束的功率和强度;
③此外,BAT系统中使用的二极管泵浦固态技术可以提供更好的整体电气效率和热管理。
②BAT系统使用掺铥元素的氟化钇锂作为增益介质,从而增加激光束的功率和强度;
③此外,BAT系统中使用的二极管泵浦固态技术可以提供更好的整体电气效率和热管理。
收藏
阅57.42W
2025-01-06 15:26 来自 台湾电子时报
2024-12-22 22:39
收藏
阅293.22W
2024-12-19 08:51 来自 NIKKEI
2024-12-03 09:44
2024-11-15 14:06 来自 日本经济新闻
2024-11-15 12:47 来自 ChosunBiz
2024-11-14 20:23