①全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”在杭州进入应用测试，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发有了“中国刻刀”；
②“羲之”通过高能电子束在硅基上“手写”电路，精度达到0.6nm，线宽8nm，可灵活修改设计无须掩膜版，特别适合芯片研发初期的反复调试。

①安徽首家半导体光刻掩模版企业——安徽晶镁光罩有限公司拟成立，多家资方合计向其增资11.95亿元；
②安徽晶镁关于半导体光刻掩模版的技术资产，均来自晶合集成方面的转让，未来将专注于28nm及以上工艺节点半导体光罩生产制造。